Maska pełnotwarzowa OXYPRO X8 (BAGNET) CL2- SILIKON

MASKA PEŁNOTWARZOWA OXYPRO X8 (bagnet) CL2 - SILKON. Spełnia normy EN 136:1998 (Sprzęt ochrony układu oddechowego - Maski - Wymagania, badanie, znakowanie). Dwufiltrowa pełnotwarzowa maska silikonowa serii X8 składa się z korpusu, dużego panoramicznego wizjera z widzeniem peryferyjnym, dwóch wytrzymałych łączników bagnetowych z zaworami wdechowymi i uszczelkami oraz taśmami nagłowia. Konstrukcja maski umożliwia skompletowanie jej z elementami usuwającymi szkodliwe substancje występujące pod postacią aerozoli (pyłu, dymu, mgły), pod postacią par i gazów oraz obu tych postaci łącznie. Stosunkowo niska waga maski serii X8 oraz podwójne złącza do mocowania z elementami oczyszczającymi zwiększają efektywność pracy. Maski serii X8 są dostępne w rozmiarach M i L. Maska jest odporna na uszkodzenia. Wizjer maski z serii X8 jest odporny na zadrapania i zaparowanie. Panoramiczna osłona twarzy, jaką jest poliwęglanowy wizjer, maksymalizuje światło wewnątrz maski i zapewnia optymalną widoczność, chroniąc jednocześnie przed uderzeniami. Taśmy nagłowia z 4- punktowym mocowaniem zapewniają doskonałe doszczelnienie i stabilną pozycję podczas pracy. Maska pełnotwarzowa serii X8 może być używana z filtrami T-BM P2 R, T-BM A P2 R, T-BM P3 R, T-BM A P3 R, X2000-AG P3 R, filtrami kapsułkowymi X793 P3 R, X793C AP3 R, pochłaniaczami X701 A1, X702 A1E1, X703 ABEK1 i filtropochłaniaczami X70523 A2P3 R D, X70923 A1E1 P3 R D, X70926 ABEK1 P3 R D. INSTRUKCJA MONTAŻU Montaż filtra: dopasować złącze filtra do uchwytu filtra w masce Wcisnąć i obrócić filtr do oporu w kierunku zgodnym z ruchem wskazówek zegara Powtórzyć procedurę dla drugiego filtra Poluzuj cztery paski uprzęży na głowę Umieść maskę na twarzy, najpierw na podbródku, a następnie na reszcie twarzy odsuwając włosy, aby uszczelka miała kontakt tylko ze skórą Po założeniu maski na twarz, przeciągn? uprząż na głowę, jak pokazano na rysunku Wyreguluj paski w następującej kolejności: szyja, skronie i czoło Nie dociągaj zbyt mocno. Spróbuj znaleźć wygodne i bezpieczne dopasowanie. Napięcie pasków można zmniejszyć poprzez wyciągnięcie wypustek zapięć OGRANICZENIA I PRZECHOWYWANIE Nie używać w środowisku, w którym stężenie tlenu jest mniejsze niż 19,5% oraz w obecności nieznanych gazów Przechowywać w oryginalnym opakowaniu wraz z instrukcją, bez podłączonych elementów oczyszczających w temperaturze od -20°C do +30°C i wilgotności RH<80% Chronić przed bezpośrednim działaniem światła słonecznego CZYSZCZENIE I DEZYNFEKCJA Zdjąć filtry przed czyszczeniem maski Maskę oczyścić wilgotną ściereczką i zanurzyć w ciepłym roztworze wodnym, którego temperatura nie może przekraczać 50°C, w razie potrzeby stosując neutralny detergent Spłukać ciepłą wodą i osuszyć powietrzem w środowisku wolnym od zanieczyszczeń NIE CZYŚCIĆ ZA POMOCĄ ROZPUSZCZALNIKÓW, SILNYCH DETERGENTÓW LUB PRODUKTÓW ROPOPOCHODNYCH