Filtrierende Halbmaske OXY X 210 FFP2 R D

Filtrierende Halbmaske OXY X 210 FFP2 R D/ OXYLINE. Erfüllt die Norm PN-EN 149+A1:2010 ( Atemschutzgeräte - Filtrierende Halbmasken zum Schutz gegen Partikel. Anforderungen, Prüfung, Kennzeichnung). Die filtrierende Halbmaske X 210 V FFP2 R D ist zum Schutz der Atemwege vor Feststoffaerosolen, Aerosolen auf Wasserbasis (Staub, Rauch) sowie Aerosolen mit flüssiger disperser Phase (Nebel) bestimmt, für die der Arbeitsplatzgrenzwert (NDS) ?0,05 mg/m3 beträgt, sofern die Konzentration der dispersen Phase 10 x NDS nicht überschreitet. Die Halbmaske ist so konstruiert, dass man während der gesamten Arbeitsschicht ( 8 Stunden) leicht darin atmen kann. Dank der anatomischen Form und des Nasenbügels, der sich darunter im Schaumstoff befindet, lässt sich die Halbmaske leicht an die meisten Gesichtsformen anpassen, um die erforderliche Dichtheit zu gewährleisten. BEISPIELHAFTE ANWENDUNG: mäßig toxische Feststoffpartikel, Stäube von Asbest, Kupfer, Barium, Titan, Vanadium, Chrom, Mangan, Hartholzstäube, Kohlenstaub mit einem Gehalt an freiem Siliziumdioxid über 10%, Bergbau, chemische Industrie, Hüttenindustrie, bei der Hartholzbearbeitung. CHARAKTERYSTYKA/ KONSTRUKCJA MASKI Mehrschichtiges Filtermaterial: Polypropylen Nasenbügel zur Formung der Halbmaske im Nasenbereich Ausatemventil aus Kunststoff Kopfband aus umflochtenen Gummifäden Kopfbandbefestigungen aus Kunststoff Nasendichtung aus Polyurethanschaum